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    1. 厚銅箔基板

      特長

      • 両面?多層のいずれにも対応できます。
      • 車載用、電源用をはじめとする大電流基板、高放熱基板として採用できます。
      • 開発設計段階からのサポートによりお客様の要望に合わせた適切な仕様をご提案できます。

      弊社內での製造は105μm 仕様になります。

      標準仕様

      項目 基板仕様
      両面板 4層板
      板厚[mm] 1.0~1.6 1.6
      導體厚[μm] ベース銅箔厚 外層 105/175 18/35/70/105
      內層 - 105/175
      外層ベース銅箔別
      仕上り導體厚
      18 - 38~55
      35 - 55~72
      70 - 90~107
      105 125~142/150~167 125~142/150~167
      175 195~225 -
      最小ドリル徑[mm] φ0.65
      最小ランド徑
      [mm]
      外層 ドリル徑+250 ドリル徑+250
      內層 - ドリル徑+350
      最小ライン&
      スペース[μm]
      外層 18 - 125/125
      35 - 150/150
      70 - 300/300
      105 300/400 300/400
      175 300/500 -
      內層 35 - 100/100
      70 - 150/150
      105 - 200/200
      レジストインク(アルカリ現像タイプ)
      表面処理 鉛フリーはんだレベラ/水溶性プリフラックス/金めっき(電解/無電解)
      斷面寫真

      外層銅箔厚:175μm仕様

      內層銅箔厚:105μm仕様

      特性

      項目 試験條件 結果




      ①導體引き剝がし強さ 前処理(260+5-0[℃]/3~4[sec])
      ⇒引き剝がし試験
      銅箔厚 18[μm]材 11[N/cm]以上
      銅箔厚 35[μm]材 15[N/cm]以上
      ②塗膜硬度 JIS C 5012
      ⇒鉛筆引っ掻き試験
      アルカリ現像タイプ 4H以上
      ③塗膜密著性 前処理( 260+5-0[℃]/3~4[sec])
      ⇒碁盤目試験(100桝)
      100/100が殘存
      ④はんだ耐熱性 前処理( 40[℃]/90[%]/96[hr])
      ⇒はんだフロート法( 260+5-0[℃]/3~4[sec])
      導體の浮き、層間剝離及び膨れなし




      ⑤耐電圧 印加電圧(100/500/1000[V]/1[min])
      ⇒表面層 最小間隙 0.10~0.13[mm] 試験電圧 100[V]
           最小間隙 0.15[mm]以上 試験電圧 500[V]
      ⇒表裏間 層間   0.80[mm]未満 試験電圧 500[V]
                0.80[mm]以上 試験電圧1000[V]
      機械的損傷、
      フラッシュオーバー、
      スパークオーバー、
      ブレークダウンの発生なし
      ⑥絶縁性 印加電圧(100/500[V]/1[min])→絶縁抵抗
      ⇒表面層 最小間隙 0.10~0.13[mm] 試験電圧 100[V]
           最小間隙 0.15[mm]以上 試験電圧 500[V]
      ⇒表裏間 層間   0.80[mm]未満 試験電圧 100[V]
                0.80[mm]以上 試験電圧 500[V]
      1GΩ以上



      ⑦耐マイグレーション性 前処理( 85[℃]/85[%]/250[hr]) 印加電圧(50[V])
      ⇒絶縁抵抗、外観検査
      1GΩ以上、デントライト発生なし
      ⑧熱衝撃試験 260+5/0[℃]/10[sec]⇔20±5[℃]/20[sec] 50[サイクル] 導通抵抗値変化10[%]以下

      記載內容は予告なく変更する場合があります。

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